Если вы продолжите пользоваться Веб-сайтом, не изменив настройки, то вы тем самым выражаете согласие на использование файлов cookie на Веб-сайте в соответствии с политикой использования файлов cookie, размещенной на сайте.

"Российский Прорыв: Комплекс для Производства Микроэлектронных Наноструктур"

"Российский Прорыв: Комплекс для Производства Микроэлектронных Наноструктур"

Научные специалисты исследовательского центра Передовые цифровые технологии при Санкт-Петербургском политехническом университете имени Петра Великого разработали инновационный технологический комплекс, который позволяет создавать наноструктуры, необходимые для функционирования различного микроэлектронного оборудования.

 

Эту информацию распространили представители Министерства науки и высшего образования Российской Федерации.

 

Данный комплекс состоит из двух компонентов. Первым является промышленная версия установки для безмасочной нанолитографии. Вторым элементом комплекса является промышленная версия установки для плазмохимического травления кремния. Разработка этого комплекса помогла решить проблему технологической независимости России в области микроэлектроники, как подчеркнули в Министерстве.

 

Первым этапом создания наноструктур является литографический процесс, который обычно выполняется на зарубежном оборудовании. Но этот процесс требует значительных временных и финансовых ресурсов. Поэтому ученые из Санкт-Петербурга предложили альтернативный подход, предлагая использовать технологию безмасочной нанолитографии, которая позволяет создавать изображение на подложке без использования маски или шаблона.

 

По оценкам ученых, стоимость данного отечественного оборудования составит около 5 миллионов рублей, что в разы дешевле, чем зарубежные аналоги, стоимостью от 10 до 13 миллиардов рублей.

 

Кроме того, для обеспечения работы этого устройства ученые разработали специализированное программное обеспечение. Устройство полностью автоматизировано, и в настоящее время его программное обеспечение дополняется системой обратной связи, чтобы уменьшить влияние человеческого фактора при эксплуатации.

 

Вторым этапом для создания наноструктур является процесс плазмохимического травления, который выполняется на основе созданного изображения на первом этапе. Помимо формирования наноструктур, данная установка также способна производить кремниевые мембраны, которые будут использоваться в судовых датчиках для измерения избыточного давления.

 

Артем Осипов, руководитель научной группы и заведующий лабораторией Технологии материалов и изделий для электроники в СПбПУ, подчеркнул, что созданные на установке мембраны обладают высокой надежностью и чувствительностью по сравнению с мембранами, созданными с использованием жидкостной или лазерной травли. Кроме того, они являются полностью российским продуктом.

 

Осипов также отметил: Применение безмасочной нанолитографии совместно с плазмохимическим травлением позволяет решать широкий спектр задач. Например, это позволяет увеличить срок службы радиолокационных устройств более чем в 20 раз. Кроме того, использование этой технологии при производстве солнечных панелей позволяет снизить их вес и размеры и обеспечивает эффективную работу даже в пасмурную погоду.

 

Специалисты из СПбПУ планируют дальше внедрять машинное обучение в обе установки и продолжить работу по созданию технологий для силовой электроники.

 

С уважением, ООО «Компания База Электроники» 

Вернуться на главную